選択的ホウ素除去装置
K2AQUA-Bは長岡技術科学大学の小林高臣教授との共同研究により開発された新規ホウ素吸着剤と、配管装置の作製により培ってきた技術を組み合わせることで従来のキレート樹脂や凝集沈殿法によるホウ素除去より安価で高効率にホウ素を除去することが可能な装置です。
装置写真


吸着剤充填カラム
ガラス研磨工場、ガラス加工工場、半導体工場、メッキ工場、温泉施設からの排水に効果を発揮します。
ユニット化された設備なので、既存の排水処理施設に設置していただくだけでホウ素除去が行えます。
ユニット化された設備なので、既存の排水処理施設に設置していただくだけでホウ素除去が行えます。
原排水 | 1次処理 | ホウ素除去後 | |
COD[ppm] | 581 | 25 | - |
ホウ素濃度[ppm] | 13.7 | 11.2 | 0.411 |
原排水 | 1次処理 | ホウ素除去後 | |
COD[ppm] | 146 | 46 | - |
pH | 9.51 | 7.3 | 7.95 |
ホウ素濃度[ppm] | 28.91 | 29.87 | 8.21 |